紫外光诱变

1.  将过夜培养的酵母菌培养液接种到5 ml YPD培养基中，于30℃培养。离心5~10 s，用1 ml 无菌水重悬沉淀细胞，重复洗涤1次，再用1 ml 无菌水重悬。

 

2.  检查细胞密度，记录数据后将细胞密度调整到2×10⁸细胞/ml。用无菌水系列稀释细胞悬液，最终确定在平板上生长出100~200个菌落的稀释度。在平板上分别涂布0.1 ml 和0.2 ml 释的菌悬液。

3.  紫外灯在使用前要预热≥20 min。移去培养皿的盖直接照射。每套平板除留2个平板作对照外均进行照射，照射剂量为3×10^-6J/mm²，细胞存活率为40%~70%。（没有照射的平板充当对照以计数菌落玻杀死的比例）

 

4.  作为对照，将0.1 ml 未诱变的菌悬液涂布于2块同样的刀豆氨酸平板上，按步骤3测定的时间照射其中一块平板，从抗刀豆氨酸的菌落计算经UV照射或未经UV照射所得到的突变频率。

 

5.  在23℃培养步骤2中的平板，直到生长菌落为止，筛选温度敏感突变株。